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水平式PECVD专用设备
特色
· 理想晶延自主研发水平式PECVD，采用水平槽式镀膜方式
· 解决了传统PE的绕镀问题，绕镀宽度<0.3mm，且色差更小
· 消除了传统PE的卡点印问题，完全无卡点
· 适用于BC类电池的钝化镀膜
· 也可以用于低成本制作掩膜
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